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062024-03 由于金刚石的非凡性能，如极高的硬度，化学惰性，光学透明度，高导热性以及电绝缘，越来越多的应用领域认识到这种材料提供的好处。特别是在涉及极高功率密度、高机械负荷或恶劣磨料条件的应用中...
302023-11 随着集成电路工艺技术的不断提高，晶体管的特征尺寸及刻蚀沟槽不断减小，沟槽及其侧壁的镀膜技术面临严峻的挑战，物理气相沉积（PVD）及化学气相沉积（CVD）工艺已经无法满足极小尺寸下良好的...
182023-10 对于光伏(PV)和薄膜电池(TFB)来说，要在成本上与化石燃料和传统电池竞争，高制造成品率至关重要。CdTe/CdS和CdS/CIGS光伏器件的CdS层以及tbs的LiPON层的针孔导致良率损失和性能降低。扫描电...
122023-07 1、ALD表面化学机制：ALD是化学气相沉积（CVD）的一类变种，其基本原理是将气相前驱体以脉冲的形式交替通入反应腔体中，气相前驱体在基底表面发生化学吸附并进行自限制的表面化学反应，从而实现薄膜的...
242023-04 “碳达峰”和“碳中和”一直都是能源领域的热点话题，作为助力“双碳”战略的生力军，光伏产业具有举足轻重的地位。目前光伏的主力是硅太阳能电池，它们具有效率高、稳定性好、产业链完备、使用寿命长的优势...
242022-08 原子层沉积（ALD）技术凭借其独特的表面自限性生长原理，优异的共形性、大面积的均匀性，可适用于复杂三维表面沉积以及深孔洞均匀填隙生长等特点，受到半导体行业的青睐。 虽然与CVD相比，ALD...