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光学表面缺陷分析仪

作者:北京正通远恒科技有限公司
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名称:光学表面缺陷分析仪

品牌:Lumina

产地:美国

型号:AT系列


Lumina AT1光学表面缺陷分析仪,创新的激光扫描设备能检测薄到0.5nm的 薄膜缺陷。可对玻漓、半导体及光电子材料进行表面检测。既能够检测SiC、GaN、蓝宝石和玻璃等透明材料,又能对Si、砷化镓、磷化铟等不透阴基板进行检测,研发及生产过程中品质管理及良率改善的有力工具。

产品优势:

1、实用:可用于易碎和超薄的样品;

2、通用:扫描任何形状平面样品≤300mm*300mm;

3、快速:3分钟全表面扫描150mm芯片;

4、灵活:可用于透明(玻璃)、半导体和金属基底;

5、灵敏:半导体愚亨70nm颗粒灵敏度(PSL),坡璃-150nm颗粒灵敏度(PSL);

6、方便:放置样品,按扫描键;


AT系列共有4种型号:AT1、ATI-Auto、AT2、AT2-EFEM,这4种型号适用场景如下:

AT1:高性价比,适用于尺寸较小样品;

AT1-Auto:AT1自动款,适用于批量检测;

AT2:高速率检测,适用于尺寸较大样品;

AT2-EFEM:适用于生产线;


AT系列基本功能:

1、全表面扫描

Lumina AT系列结合椭圆偏光、反射测量、表面斜率与散射测量等基本原理,以非破环性方式对Wafer表面的残留异吻,表面与表面下缺陷,形状变化和薄膜厚度的均匀性进行检测。
2、缺陷分析

软件可以给缺陷分类,以直观易用的方各式提供缺陷数据。检测报告可以存档成.csv文件。

3、缺陷位置标记

用可选附件钻石刀标明重要的缺陷位置以方便进—步分析(比如扫描电镜等)。


AT系列独特功能:

1、多通道,高信噪比

LuminaAT系到由四个检测通道组成的检测系统组成。四个通道同时工作, 每个通道分别对特定的缺陷进行检测和分类。

2、可根据激光入射角厚度和反射率, 通过计算分辨出缺陷是否在上表面、下表面或者中间层。

3、可适用于各种形状及厚度的样品。

Lumina设备样品台由主支撑针和固定针组成, 通过两组针来固定样品, 适用于各种形状和厚度的样品。

技术指标

1、ATX系列内部AT1与AT2技术指标对比如下:


2、LuminaAT系列与传统的缺陷检测设备相比, 具有更高的灵敏度和适用性, 可以同时检测上表面和下表面的缺陷。同时, 具有更高的检测速度, 可以在很短的时间内对样品进行全表面扫描, 可极大的减轻人工检测的压力。

应用领域

1、透明样品

AR/VR眼镜、特制镜片、掩光板、方形玻璃、菲涅尔透镜、蓝宝石、大玻璃面板、石英

2、半导体

单晶硅片、复合半导体晶片、碳化硅、砷化镓、铌酸锂、氮化镓


应用示例

a、玻璃及透明基底

有机残留、外部划痕、内部划痕、内外部颗粒、残留应力

b、AR波导光栅

Lumina AT系列可以检测AR光栅上表面和下表面颗粒物划痕、颗粒、气泡、污渍等缺陷,从而对光栅性能做出评估或者对工艺改进提倛参考。

c、棱镜

表面污渍定位、表面划痕定位、表面颗粒定位

d、碳化硅

碳化硅为第三代半导体的代表材料, 具有高能量间隙、热导率、饱和漂移速度等优点,广泛应用千照明、光伏逆变器、充电桩等行业。Lumina AT系列可以分辨出碳化硅表面的各种缺陷, 为碳化硅生产和二艺的改进提供有力保障。

e、硅片

薄膜缺陷、芯片边缘污染、线性缺陷、陷坑、低洼、鼓包、刻蚀深度




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