衬底尺寸和类型 | 50 – 200 mm /单片 最大可沉积直径150 mm基片,竖直放置,10-25片/批次(根据工艺) 156 mm x 156 mm 太阳能硅片 3D 复杂表面衬底(使用Showerhead喷洒淋浴模式效果更佳) 粉末与颗粒(配备扩散增强器) 多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品 |
工艺温度 | 50 – 500 °C, 可选更高温度(真空腔体外壁不用任何冷却方式即可保持温度低于60 °C) |
基片传送选件 | 气动升降(手动装载) 预真空室安装磁力操作机械手(Load lock ) |
前驱体 | 液态、固态、气态、臭氧源 4根独立源管线,最多加载6个前驱体源 对蒸汽压低的前驱体(1mbar~10mbar),用氮气等载气导入前驱体瓶内引出 |
重量 | 350kg |
尺寸( W x H x D)) | 取决于选件 最小146 cm x 146 cm x 84 cm 最大189 cm x 206 cm x 111 cm |
选件 | PICOFLOW™扩散增强器,集成椭偏仪,QCM, RGA,N2发生器,尾气处理器,定制设计,手套箱集 成(用于惰性气体下装载)。 |
验收标准 | 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 |
材料 | 非均匀性(1σ) |
AI2O3 (batch) | 0.13 % |
SiO2 (batch) | 0.77 % |
TiO2 | 0.28 % |
HfO2 | 0.47 % |
ZnO | 0.94 % |
Ta2O5 | 1.0 % |
TiN | 1.10 % |
CeO2 | 1.52 % |
Pt | 3.41 % |