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名称：脉冲激光沉积系统
品牌：Neocera
产地：美国
型号：Pioneer 120 Advanced PLD System
Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于卓越经验的创新设计，利用PLD 开展了深入广泛的研究，建立了获得薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压（>100 Torr）下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能（压力范围可从额定初始压强到大气压）。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的最大均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离，以达到最优的沉积条件。
| 项目 | Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120A |
| 最大wafer 直径 | 8” | 6” | 2” |
| 最大靶材数量 | 6 个1” 或3 个2” | 6 个1” 或3 个2” | 6 个1” 或3 个2” |
| 压力(Torr) * | 5*10-8 | 5*10-9 | 5*10-9 |
| 真空室直径 | 24” | 18” | 12” |
| 基片加热器 | 360°旋转 | 360°旋转 | 360°旋转 |
| 最高样品温度 | 850 ℃ | 850 ℃ | 950 ℃ |
| Turbo 泵抽速* （liters/sec） | 700 软件控制 | 400 软件控制 | 260 软件控制 |
| 计算机控制 | 包括 | 包括 | 包括 |
| 基片旋转 | 包括 | 包括 | 选件 |
| 基片预真空室 | 包括 | 选件 | 选件 |
| 扫描激光束系统 | 包括 | 选件 | - |
| 靶预真空室 | 包括 | 选件 | - |
| IBAD 离子束辅助沉积 | 选件 | 选件 | 选件 |
| CCS 连续组成扩展 | 选件 | 选件 | - |
| 高压RHEED | 选件 | 选件 | 选件 |
| 520 liters/sec 泵 | N/A | 选件 | - |
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脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD 是一种“ 数字” 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（Å/pulse）。
• Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面卓越的经验
• Pioneer 系列PLD 系统是全球研发领域广泛使用的商业化系统
• Neocera 不仅为客户提供最基本的PLD 系统，也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案