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正通远恒邀您参加2017年中国ALD会议

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2017中国ALD技术交流与学术研讨会将于2017.08.21在无锡拉开帷幕,本次会议不收取会议注册费。我们很荣幸地邀请您参加此次研讨会,与国内外知名专家、教授等业内人士共同探讨ALD的未来发展方向。

原子层沉积系统(ALD)作为一种自限制生长的纳米级成膜技术,具有精确地原子层级厚度控制、高度的共形覆盖能力等优点,现已被广泛的应用于微电子、光电子、催化、能源、光学、防护、生物医用材料与器件制备等领域

 

 - 原子层沉积力量之源 -

Picosun的研究历史和背景始于原子层沉积领域研究起步时期。ALD原子层沉积系统是由Dr.TuomoSuntola于1974年在芬兰发明的,他现在是Picosun董事会成员之一,Picosun的创建者和首席技术执行官(CTO)Mr.SvenLindfors早在1975年已经创造出卓越的ALD系统,他被誉为“世界经济最为丰富的ALD反应器设计师”


- 专注于ALD 40年 - 

如今Picosun持续致力于ALD系统研究已经长达40多年,Picosun核心团队成员都是由具有极高学术专业水平的科研人员组成,都是ALD方面的专家。Picosun团队被广泛誉为“史上最棒的ALD团队”已经对ALD贡献了100多项专利,我们与顶尖的研究机构和主流的工业单位密切合作,巩固了我们在全球ALD研究的前沿位置。



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