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PICOSUN™ALD - 光学、显示器

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PICOSUNALD批量生产设备是大批量生产光学和显示器元件的理想选择。在样品处理上我们有多种的选择,例如,即使是一批很大很重的玻璃样品也可以通过设备装载系统中的工业机器人轻松地进行搬运。提供给您的涂层解决方案中包含PICOSUN对于大量光学材料及其组合的工艺。

ALD工艺允许改变材料的表面电学特性和外貌。因为在上述提到的光学应用中,即使是薄膜均一性上几个纳米尺度的偏差或微尺度裂缝、孔洞、缺陷或非保形性都可能使整个元件无法发挥功能。ALD是最理想的薄膜沉积选择,在某些情况下甚至是唯一能够沉积出高质量薄膜的工艺方法。



点击下面链接来找到最适合您光学或显示器应用的PICOSUN™ ALD系统:

· PICOSUNP-300 Advanced

· PICOSUNP-1000 Pro

· PICOSUNR-200 Advanced

· PICOSUNR-200 Standard

在购买设备之前,我们的样品测试服务可以确保您打算购置的ALD系统能够100%满足您最严苛的生产要求。我们的Picosupport 服务在保证快速交货的同时向您提供24小时在线的全面售后服务。

PICOSUN™ALD工艺在光学元件的涂层沉积上有非同一般的表现,可应用于X射线、紫外、视觉和红外光谱等领域。对薄膜的均一性、保形性、结构完整性进行最高级别的数字化控制并且对薄膜的厚度和化学组成在纳米级别进行控制和调整,这都使得ALD工艺成为在光学和显示器领域沉积涂层的理想方法,可沉积的涂层种类有:

· 滤光片                    · /热 反光镜

· 偏振片                    · 紫外光组隔层

· 增透层                    · 吸收涂层(黑膜)


· 防裂层                    · 光学相位延迟器和波片

· 有色涂层                · 微纳光学,利用ALD功能3D结构

· 疏水涂层                · 微通道板和菲涅尔区(x射线光学)金属化

· 反射涂层                · 透镜阵列用于微型显示器、数位成像和通讯

· 透明涂层                · 保护层(保护镜头、显示器和其他敏感光学元件)

· 衍射涂层



此外,ALD工艺独有的沉积例如纳米叠层和梯度薄膜这样的多层薄膜叠层的能力以及对薄膜单层的组分、厚

度和界面的精确控制使其能够为光学器件和显示器的工业化生产创造出更多的可能性。

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